FT-ICRによるシリコンクラスターの化学反応とそれに伴う解離
東大院工
○井上修平,河野正道,丸山茂夫
Abstract
FT−ICR質量分析装置を用いてシリコンクラスターと一酸化窒素の化学反応を行い,24量体程度以上の大きなクラスターについては,Si原子一つとN原子が入れ替わる反応が観察された.また,小さめのシリコンクラスターの場合には,この置換反応の後に,クラスターの解離が観察され,この解離パターンのクラスターサイズ依存性をレーザー解離実験の結果と比べ,クラスターの内部構造についての検討を行った.
Chemical reaction of Silicon Cluster Ions with Nitric Oxide was studied by using the FT-ICR mass-spectrometer. For larger Si clusters with more than 24 Si atoms, an extraction of a Si atom as SiO was observed. On the other hand, smaller Si clusters dissociated into smaller pieces after this reaction. The cluster size dependent dissociation patterns were compared with the laser dissociation experiments.