低温凝縮したメチルイソブチレートおよびジメチルカルボネート分子の内殻励起イオン脱離反応の研究
広大院理
○輪木覚,中島洋介,Sardar S Amin,藤井健太郎,和田真一,関谷徹司,田中健一郎
Abstract
軟X線放射光による固体表面上での内殻励起イオン脱離反応において、PMMA高分子薄膜のように顕著なサイト選択的イオン脱離反応を起こす系が明らかになってきた。本研究ではPMMAの側鎖構造であるエステル結合に着目し、メチルイソブチレートとジメチルカルボネート分子に関する内殻励起イオン脱離反応を調べることにより、同様の特定の非占有軌道への共鳴励起に依存したサイト選択性を見出した。
It is reported that site-specific photon stimulated ion desorption (PSID) occurs in thin film of poly-methylmethacrylate (PMMA) by monochromatic soft X-ray. In this study, we take notice of an importance of the functional group (ester group) in the side chain of PMMA and have studied PSIDs of condensed methylisobutylate and dimethylcarbonate molecules, which have same ester groups as PMMA.