高歪み化合物であるシクロファン類は気相中、真空紫外レーザー励起を行うと、生成したホット分子がさらに光を吸収して反応し、キシリレンが生成する。無置換のパラシクロファンでは反応は速く、速度定数を得ることは出来ない。メチル置換体を用いて希薄条件下で測定を行ったところ１光子、２光子反応の両者とも観測できた。ホット分子の反応速度を反応速度論から得られた値と比較し、反応速度における歪みエネルギーの寄与について議論した。

The bond dissociations of cyclophane derivatives with an ArF excimer laser were explained in terms of a multiphoton reaction of hot molecules. A slow rise of xylylene that originated in the single photon dissociation process of hot cyclophane was observed in the case of methylsubstituted paracyclophanes under low pressure conditions. The specific reaction rates of the dissociations of highly strained paracyclophanes were discussed