フェノール及びアニソールを光励起すると、フェノキシラジカルが生成することが知られている。しかし最近、アニソールの266nm光励起によってフェノキシメチルラジカルも生成することが明らかとなってきた。本研究ではフェノキシメチルラジカルのより詳しい情報を得るために縮退四光波混合分光法を用いて測定を行った。励起アニソール分子の反応メカニズム及びそれらのラジカルの電子構造を現在検討中である。

We reported transient absorption spectra of anisole in solution and the spectrum showed the formation of not only phenoxy radical but also phenoxymethyl radical. Degenerate four-wave mixing technique was applied to this system for the first time. Dissociation mechanism on excited anisole molecule and electronic structure for the radical will be discussed.