2波長Dip分光法を応用したファーフィールド超解像顕微鏡の開発(2)−走査型方式への発展−
分子研
○渡邉武史,池滝慶記,尾松孝茂,山元公寿,藤井正明
Abstract
我々はこれまで、YAGレーザーの2倍波(532nm)をRhodamine6GをドープしたPMMA薄片に入射した時の蛍光スポットサイズが、Bessel位相板を用いてドーナツ状に変換した599nmのレーザー光を入射することにより70%収縮することを確認し、回折限界を超えた蛍光顕微鏡への応用が可能であることを検証してきた。今回、色素薄片を移動ステージに載せ、その位置を変えながら薄片エッジ近傍の蛍光強度をモニターした。2波長の光を入射すると、532nmのみを入射したときに比べて蛍光強度のシャープな立ち下がりが観測された。これは回折限界を超えたことを意味しており、本討論会で2波長蛍光Dip法がプローブを用いない新規超解像顕微鏡に適用できることを報告する。
We have reported the shurink of the fluorescense spot by appling two color dip method, and our newproposed super-resolution technique has been confirmed. In this report, we will demonstrate the application of this method to the scanning type microscope.