92580762.337

アルミニウム(111)表面における薄膜成長に関する理論計算


東大院工

○中臣政司,中島徹,山下晃一



Abstract


我々は実験での解明は困難とされる、AlH3を含む有機アルミニウムガスを材料とするアルミニウム化学蒸着法における表面反応の詳細な反応機構を理論的に検討した。本研究では表面の再現にクラスター法、電子構造計算のために密度汎関数法、そして反応速度定数の計算のため遷移状態理論を用い、アルミニウム(111)表面に吸着したAlH3から起こると予想されるいくつかの素反応についてそれぞれの反応速度定数を計算した。

We have treated some elementary reactions of aluminum CVD which are supposed to occur for an adsorbed alane molecule on the aluminum(111) surface. We applied a cluster method to mimic the aluminum(111) surface, the density functional theory to calculate the electronic structures of the system and the transition state theory to calculate reaction rates.