金属表面に吸着した分子の電子状態計算モデルであるDipped Adcluster model (DAM)の鏡像力補正項に電子状態の緩和効果を取り入れた。このモデルの拡張によってオリジナルのDAMでは吸着安定化が算出されなかった系（例えばCO/Rh）で、明確な安定化が求められた。オリジナルのDAMでも十分な結果が得られる場合についても比較検討する。

The electronic relaxation effect is introduced into the imag force correction of the Dipped Adcluster Model (DAM), which is a model for the electronic state calculation of the adsorbed molecule on metal surface. The obvious stabilization on metal surface adsorption is found to the unstabilized system with original DAM by the present extension of the model.