Si(100)表面上に化学吸着した1,1,1-トリフルオロ-2-プロパノールのサイト選択的解離の研究
愛媛大理・物構研・東大物性研・名大院理
○長岡伸一，間瀬一彦，中村有延，長尾昌志，吉信淳，田中慎一郎
Abstract
分光した光電子と光イオンの同時計数法を用いて、Si(100)表面上の1,1,1-トリフルオロ-2-プロパノールのC:1s内殻イオン化によって引き起こされるサイト選択的解離を研究した。高分解電子エネルギー損失分光法を用いて、この分子が(CF3)(CH3)CDO-Si(100)のように解離性化学吸着を示すことがわかった。室温の単層吸着分子が顕著なサイト選択的解離を示した。
We used the energy-selected-photoelectron photoion coincidence (ESPEPICO) method to clarify site-specific fragmentation caused by C:1s photoionization of 1,1,1-trifluoro-2-propanol-d1 (CF3CD(OH)CH3, TFIP-d1) on a Si(100) surface. By using high-resolution electron energy loss spectroscopy, it was shown that TFIP-d1 is dissociatively chemisorbed like (CF3)(CH3)CDO-Si(100). Site-specific fragmentation was clearly revealed in the ESPEPICO spectra of the monolayer at room temperature.