ダイヤモンド電極表面における金属還元析出に関する理論的研究
東大IML・東大院工
○大脇創,村井隆彦,山下晃一
Abstract
ダイヤモンド電極表面上に金属原子が還元析出する際、金属原子によってその析出速度や析出様態が異なることが知られている。本研究では、クラスターでモデル化したダイヤモンド電極表面と金属イオン(Ag+とHg2+)との相互作用を密度汎関数法で求め、それに基づいてAnderson-Newnsハミルトニアン解析を行なうことで、電極表面−金属イオン間における電子移動について検討し、両者の還元析出反応の違いについて考察した。
The mechanism of the cathodic deposition of metal atoms at boron-doped diamond electrodes depends on the kind of atoms. We calculated the interactions between a cluster-modeled diamond electrode surface and metal ions, Ag+ and Hg2+, byusingDFT. The difference in the mechanism of the cathodic deposition of the ions is discussed based on the Anderson-Newns Hamiltonian analysis.