金−チオール相互作用を利用した安定ラジカル分子の2次元集積化
東大院総合・理研フロンティア
尾崎直人,石川佳寛,○松下未知雄,菅原正,中村史夫,原正彦
Abstract
安定有機ラジカルであるニトロニルニトロキシドを置換したチオール前駆体を合成し、金(111)表面上に導入して、SAMを形成した。SAMの形成は、表面プラズモン共鳴及び赤外反射吸収スペクトルの測定により確認した。SAM中のラジカル種の存在は、ESRを用いて確認した。電気化学的手法により、吸着密度は1分子あたり42平方オングストロームと見積もられ、密に吸着していることが明らかになった。
Novel pro-thiole compound, carrying nitronyl nitroxide was synthesized and introduced onto AU(111) surface. Formation of the self-assembled monolayer(SAM) of the radical was confirmed by surface plasmon resonance and infrared spectra with reflectance-absorption method. ESR measurement revealed the open-shell character of the SAM. The adsorptiondensity of the radical molecule in the SAM, estimated by electrochemical method, was 42 square angsrtom per molecule. This result suggests the dense packing of the radicals in the SAM.